| Разработчики: | Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) |
| Дата премьеры системы: | апрель 2025 г |
| Отрасли: | Электротехника и микроэлектроника |
Содержание |
История
2026: Раскрыта цена литографа — 392 млн рублей
В феврале 2026 года стало известно, что базовая цена отечественного 350-нм литографа «Прогресс СТП-350», включающая доставку, установку и обучение персонала, составляет около 392 млн рублей без НДС. С расширенной гарантией цена системы превышает 500 млн рублей.
Как сообщает издание CNews, такое оборудование выпускается Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ). Срок изготовления и поставки — 18 месяцев с момента получения аванса в размере 50% от стоимости. Производительность литографа достигает 63 кремниевых пластин диаметром 150 мм или 43 пластин диаметром 200 мм в час.
Приобретение расширенной двухлетней гарантии обойдется в 58 млн рублей, а дополнительной пятилетней — еще в 111 млн рублей. В гарантийное обслуживание входят ремонт, дистанционная диагностика и комплексная поддержка системы. Также доступны опционные модули: активная виброзащита за 40 млн рублей и комплект из 24 фотошаблонов — трафаретов для нанесения схемы на пластину — за 12 млн рублей.
Представитель ЗНТЦ сообщил, что компания уже заключила договоры на отложенную поставку оборудования. В своем заявлении он подчеркнул, что цена литографа формируется стоимостью материалов и компонентов и является конкурентоспособной на фоне зарубежных аналогов.Российский рынок BPM-систем: оценки, лидеры, тренды и перспективы. Обзор TAdviser 
Независимый эксперт Алексей Бойко отметил, что цена отечественной разработки на десятки процентов ниже, чем у зарубежных систем сопоставимого уровня. С этой точкой зрения согласились и другие отраслевые специалисты, опрошенные изданием CNews.
В то же время руководитель «Троичных технологий» Александр Тимошенко указал, что с точки зрения мировой рыночной экономики заявленная цена является крайне завышенной для данных технических характеристик. Однако, добавил эксперт, в условиях ограничительных мер и необходимости технологической независимости такая стоимость может быть обоснованной. [1]
2025: Анонс продукта
В конце апреля 2025 года Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) объявил о завершении опытно-конструкторских работ по созданию первого отечественного фотолитографа с разрешением 350 нанометров, который является ключевым элементом при производстве микросхем. Установка совмещения и проекционного экспонирования уже принята государственной комиссией, включавшей представителей отраслевых организаций и крупнейших российских производителей микроэлектроники.
Как сообщает пресс-служба ЗНТЦ, для реализации проекта в качестве соисполнителя была привлечена белорусская компания ОАО «Планар», обладающая профильным научно-техническим заделом на всем постсоветском пространстве. Совместная разработка имеет ряд существенных преимуществ по сравнению с предшествующими моделями.
Генеральный директор АО «ЗНТЦ» Анатолий Ковалев отметил, что в новой установке существенно увеличена площадь рабочего поля — 22×22 мм против 3,2×3,2 мм у предыдущей версии. Также увеличен максимальный диаметр обрабатываемых пластин до 200 мм вместо прежних 150 мм. Особенно важным технологическим прорывом является использование в российской установке твердотельного лазера вместо традиционной ртутной лампы, применяемой в мировой практике производства литографов. Твердотельный лазер отличается большей мощностью, энергоэффективностью, высокой долговечностью и более узким спектром.
Уже ведется адаптация технологических процессов к особенностям производства конечного потребителя, а также заключение контрактов на поставку первых установок для модернизации существующих и оснащения новых микроэлектронных производств страны.
Все испытания разрабатываемого оборудования и дальнейшая адаптация технологических процессов к особенностям производств заказчиков будут проводиться на специализированной площадке инженерно-исследовательского центра АО «ЗНТЦ» — Полигоне испытаний технологического оборудования. Данный подход позволяет решить проблемы отладки, не затрагивая технологические процессы и ресурсы действующих производств, что существенно сокращает путь от разработки оборудования до серийного выпуска микроэлектронной продукции.[2]
Примечания
